資料紹介

　ナノ光デバイス、ナノ光スイッチ、ナノ光源、ナノ光集積回路などのナノフォトニックデバイスをつくるためには、ナノフォトニクスによる新しい光加工を用いて、多様な材料を堆積させ、近接場光エネルギーが移動できるように、寸法、位置の精度を1nmよりも小さくしなければならない。ナノフォトニクスによる新しい光加工としては、化学気相堆積（CVD）やリソグラフィなどがある。まず化学気相堆積とは、紫外線により分子を解離させ、原子を堆積させる技術であり、位置や寸法の誤差を1nm以内に抑えられるという量的変革をもたらした。これにより、金属のナノレベルでの加工や、光る半導体の作成が可能となる。質的変革としては、紫外線（およびそれを発生する大型、高価なレーザー光線）の代わりに、普通の赤色光や青色光を光源として近接場光を発生させても分子が分解すること、普通の伝搬光では分解しない分子も、近接場光では分解することなどがあげられる。次にリソグラフィとは、ナノ寸法パターンを形成するためにフォトレジストを削る技術のことであり、今までには不可能だった微細なパターンを可能にし、量的変革をもたらした。また、極端紫外光やF2レーザー光に比べて、近接場光のリソグラフィ装置は分解能が向上し、装置寸法が小さくなり、より低コストで作れることも、量的変革といえる。質的変革としては、紫外線（およびそれを発生する大型、高価なレーザー光線）の代わりに、普通の赤色光や青色光を光源として近接場光を発生させてもフォトレジストが反応すること、普通の伝搬光では反応しないフォトレジストも、近接場光では反応することなどがあげられる。したがって、赤色光を用いることで、値段を低く、体積を小さく、消費電力を少なくすることができ、紫外線を用いた場合の問題を解決できる。
　CD、DVDといった光メモリにも、近接場光を応用できる。

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ナノフォトニクスの将来
ナノ光デバイス、ナノ光スイッチ、ナノ光源、ナノ光集積回路などのナノフォトニックデバイスをつくるためには、ナノフォトニクスによる新しい光加工を用いて、多様な材料を堆積させ、近接場光エネルギーが移動できるように、寸法、位置の精度を1nmよりも小さくしなければならない。ナノフォトニクスによる新しい光加工としては、化学気相堆積（CVD）やリソグラフィなどがある。まず化学気相堆積とは、紫外線により分子を解離させ、原子を堆積させる技術であり、位置や寸法の誤差を1nm以内に抑えられるという量的変革をもたらした。これにより、金属のナノレベルでの加工や、光る半導体の作成が可能となる。質的...

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